日本專利法和設計法的優惠期相關規定的修改法案，已通過國會的審議，修改後的法律將於2018年6月9日生效。以往，首次揭露後提交申請的優惠期為6個月。根據修訂後的法律，優惠期將延長至12個月。
所謂「優惠期」，係指提出專利申請案時，在申請日之前某特定期間內，對所請技術內容之公開，可被排除在本案申請案先前技術的範圍。優惠期可使得因故在提出專利申請之前即已公開技術內容之人仍有取得專利權之可能，因而有利於技術的提早公開及流通，並藉由優惠期制度要件寬嚴度的控制，兼顧專利法制之目的。
修訂後的條文，將適用於2017年12月9日或之後的公開揭露。例如，如果專利申請人於2017年12月9日揭露了其發明或設計的內容，則申請人可以利用揭露後的12個月優惠期內，於2018年12月9日或之前提交日本專利，實用新型或外觀設計申請，而不會造成對本身新穎性的阻卻。至於PCT申請，其國際申請日被認為是日本申請日，因此PCT申請，應在首次揭露後的12個月內提交，以適用日本新修訂的優惠期。
然而，如果是2017年12月9日前揭露的技術內容的申請案，則是適用於舊的6個月的優惠期。也就是說，申請人從揭露日起至2018年6月8日之間，仍是只有6個月優惠期。
《日本特許廳將專利優惠期延長至：自首次揭露後12個月》